保護基 早見表
Bocアミン
導入Boc₂O, Et₃N(または NaHCO₃ aq)
脱保護TFA / 4M HCl–ジオキサン
酸で外れる。塩基・求核剤・接触水素化に安定
Fmocアミン
導入Fmoc-Cl または Fmoc-OSu, 塩基
脱保護20% ピペリジン/DMF
塩基で外れる。酸に安定。SPPSの定番
Cbz (Z)アミン
導入Cbz-Cl, 塩基
脱保護H₂, Pd/C
水素化分解。酸・塩基に比較的安定
Acアミン
導入Ac₂O または AcCl, 塩基
脱保護強酸/強塩基で加水分解
外しにくいので一時保護には不向きなことも
Tsアミン
導入TsCl, ピリジン
脱保護Na/ナフタレン, Mg/MeOH 等
非常に頑丈。脱保護条件が過酷
TMSアルコール
導入TMSCl, イミダゾール
脱保護K₂CO₃/MeOH, 希酸, F⁻
最も外れやすいシリル。仮保護向き
TBS (TBDMS)アルコール
導入TBSCl, イミダゾール/DMF
脱保護TBAF/THF, HF·py
汎用シリル。酸性条件にはやや弱い
TIPSアルコール
導入TIPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF
TBSより酸に強い。1級OH選択的
TBDPSアルコール
導入TBDPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF(遅め)
酸に最も強いシリル級。かさ高い
Bnアルコール
導入BnBr, NaH/DMF
脱保護H₂, Pd/C
酸塩基に強い。水素化で除去
PMBアルコール
導入PMB-Cl, NaH(または PMB-トリクロロアセトイミダート)
脱保護DDQ / CAN
Bnと直交。酸化的に外せる
MOMアルコール
導入MOMCl, DIPEA
脱保護HCl/MeOH, TMSBr
酸で除去。塩基に安定
THPアルコール
導入DHP, PPTS(cat.)
脱保護PPTS/MeOH
安価。ジアステレオマー混合物になる点に注意
Acアルコール
導入Ac₂O, ピリジン/DMAP
脱保護K₂CO₃/MeOH
穏和に着脱可能。塩基性条件に弱い
Tr (トリチル)アルコール
導入TrCl, ピリジン
脱保護希酸(AcOH aq 等)
1級OH選択的。かさ高い
1,3-ジオキソランカルボニル
導入エチレングリコール, TsOH, Dean–Stark
脱保護希酸水溶液 / アセトン, PPTS
アセタール保護の定番。塩基・求核剤に安定
1,3-ジチアンカルボニル
導入1,3-プロパンジチオール, BF₃·OEt₂
脱保護Hg(II)塩, MeI, 酸化剤
アンポール化(umpolung)にも利用可
Meエステルカルボン酸
導入MeOH/H₂SO₄ または TMSCHN₂
脱保護LiOH または NaOH aq
最小・安価。塩基加水分解で除去
tBuエステルカルボン酸
導入イソブチレン/H₂SO₄, Boc₂O/DMAP
脱保護TFA
酸で外れる。塩基加水分解に強い
Bnエステルカルボン酸
導入BnBr, K₂CO₃
脱保護H₂, Pd/C
中性条件(水素化)で除去できる
※ 代表的な条件のみ。基質依存性があるため一次文献(Greene's PG 等)で要確認。