使い方ガイド

Bocアミン

導入Boc₂O, Et₃N(または NaHCO₃ aq)

脱保護TFA / 4M HCl–ジオキサン

酸で外れる。塩基・求核剤・接触水素化に安定

Fmocアミン

導入Fmoc-Cl または Fmoc-OSu, 塩基

脱保護20% ピペリジン/DMF

塩基で外れる。酸に安定。SPPSの定番

Cbz (Z)アミン

導入Cbz-Cl, 塩基

脱保護H₂, Pd/C

水素化分解。酸・塩基に比較的安定

Acアミン

導入Ac₂O または AcCl, 塩基

脱保護強酸/強塩基で加水分解

外しにくいので一時保護には不向きなことも

Tsアミン

導入TsCl, ピリジン

脱保護Na/ナフタレン, Mg/MeOH 等

非常に頑丈。脱保護条件が過酷

TMSアルコール

導入TMSCl, イミダゾール

脱保護K₂CO₃/MeOH, 希酸, F⁻

最も外れやすいシリル。仮保護向き

TBS (TBDMS)アルコール

導入TBSCl, イミダゾール/DMF

脱保護TBAF/THF, HF·py

汎用シリル。酸性条件にはやや弱い

TIPSアルコール

導入TIPSCl, イミダゾール

脱保護TBAF

TBSより酸に強い。1級OH選択的

TBDPSアルコール

導入TBDPSCl, イミダゾール

脱保護TBAF(遅め)

酸に最も強いシリル級。かさ高い

Bnアルコール

導入BnBr, NaH/DMF

脱保護H₂, Pd/C

酸塩基に強い。水素化で除去

PMBアルコール

導入PMB-Cl, NaH(または PMB-トリクロロアセトイミダート)

脱保護DDQ / CAN

Bnと直交。酸化的に外せる

MOMアルコール

導入MOMCl, DIPEA

脱保護HCl/MeOH, TMSBr

酸で除去。塩基に安定

THPアルコール

導入DHP, PPTS(cat.)

脱保護PPTS/MeOH

安価。ジアステレオマー混合物になる点に注意

Acアルコール

導入Ac₂O, ピリジン/DMAP

脱保護K₂CO₃/MeOH

穏和に着脱可能。塩基性条件に弱い

Tr (トリチル)アルコール

導入TrCl, ピリジン

脱保護希酸(AcOH aq 等)

1級OH選択的。かさ高い

1,3-ジオキソランカルボニル

導入エチレングリコール, TsOH, Dean–Stark

脱保護希酸水溶液 / アセトン, PPTS

アセタール保護の定番。塩基・求核剤に安定

1,3-ジチアンカルボニル

導入1,3-プロパンジチオール, BF₃·OEt₂

脱保護Hg(II)塩, MeI, 酸化剤

アンポール化(umpolung)にも利用可

Meエステルカルボン酸

導入MeOH/H₂SO₄ または TMSCHN₂

脱保護LiOH または NaOH aq

最小・安価。塩基加水分解で除去

tBuエステルカルボン酸

導入イソブチレン/H₂SO₄, Boc₂O/DMAP

脱保護TFA

酸で外れる。塩基加水分解に強い

Bnエステルカルボン酸

導入BnBr, K₂CO₃

脱保護H₂, Pd/C

中性条件(水素化)で除去できる

※ 代表的な条件のみ。基質依存性があるため一次文献(Greene's PG 等)で要確認。

基本操作

原子を置く: ツールバーで元素（C, N, O など）を選んでキャンバスをクリック
結合を引く: 単結合・二重結合・くさび結合などを選んで原子間をドラッグ
環を描く: 3〜6員環、ベンゼンのアイコンをクリックしてキャンバスに置く
削除: 消去ツール（🗑）または右クリックで要素を削除

パン・ズーム

ドラッグでパン（スクロールではありません）
マウスホイールでズームイン/アウト
「全体」ボタンで全要素をフィット表示

テキスト・表・マーカー

テキストツール: 試薬名・条件などを記入
表ツール: 検討表を構造式と同じキャンバスに挿入、クリックで編集
マーカーツール: 注目箇所を円でハイライト

エクスポート

PNG: 300dpi 高解像度画像
SVG: ベクター形式、論文・スライドに最適
画像コピー: PowerPoint に直接貼り付け可能（再編集対応）

使い方ガイド

NMRデータ整形(ACS形式)

HRMS計算・整形

構造設定

計算パラメータ