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黒(モノクロ)
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画像コピー(PowerPoint貼付・再編集対応)
SVGファイル保存
PNG保存(300dpi)
スケッチ保存/読込
100%
C2H6
30.07CC
※セルを選んでから押すと末尾文字を変換(脚注 a,b,c も可)
収率列の最高値は自動で強調されます(図出力では太字)。Entry列は自動採番。⧉で行を複製して条件を1つだけ変える、が最速の入力方法です。
NMRデータ整形(ACS形式)
δ (ppm)多重度J (Hz)H数
HRMS計算・整形
精密質量(最多同位体)から付加体のm/zを自動計算。ドロータブの分子式バーにもexact massを表示しています。
Bocアミン
導入Boc₂O, Et₃N(または NaHCO₃ aq)
脱保護TFA / 4M HCl–ジオキサン
酸で外れる。塩基・求核剤・接触水素化に安定
Fmocアミン
導入Fmoc-Cl または Fmoc-OSu, 塩基
脱保護20% ピペリジン/DMF
塩基で外れる。酸に安定。SPPSの定番
Cbz (Z)アミン
導入Cbz-Cl, 塩基
脱保護H₂, Pd/C
水素化分解。酸・塩基に比較的安定
Acアミン
導入Ac₂O または AcCl, 塩基
脱保護強酸/強塩基で加水分解
外しにくいので一時保護には不向きなことも
Tsアミン
導入TsCl, ピリジン
脱保護Na/ナフタレン, Mg/MeOH 等
非常に頑丈。脱保護条件が過酷
TMSアルコール
導入TMSCl, イミダゾール
脱保護K₂CO₃/MeOH, 希酸, F⁻
最も外れやすいシリル。仮保護向き
TBS (TBDMS)アルコール
導入TBSCl, イミダゾール/DMF
脱保護TBAF/THF, HF·py
汎用シリル。酸性条件にはやや弱い
TIPSアルコール
導入TIPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF
TBSより酸に強い。1級OH選択的
TBDPSアルコール
導入TBDPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF(遅め)
酸に最も強いシリル級。かさ高い
Bnアルコール
導入BnBr, NaH/DMF
脱保護H₂, Pd/C
酸塩基に強い。水素化で除去
PMBアルコール
導入PMB-Cl, NaH(または PMB-トリクロロアセトイミダート)
脱保護DDQ / CAN
Bnと直交。酸化的に外せる
MOMアルコール
導入MOMCl, DIPEA
脱保護HCl/MeOH, TMSBr
酸で除去。塩基に安定
THPアルコール
導入DHP, PPTS(cat.)
脱保護PPTS/MeOH
安価。ジアステレオマー混合物になる点に注意
Acアルコール
導入Ac₂O, ピリジン/DMAP
脱保護K₂CO₃/MeOH
穏和に着脱可能。塩基性条件に弱い
Tr (トリチル)アルコール
導入TrCl, ピリジン
脱保護希酸(AcOH aq 等)
1級OH選択的。かさ高い
1,3-ジオキソランカルボニル
導入エチレングリコール, TsOH, Dean–Stark
脱保護希酸水溶液 / アセトン, PPTS
アセタール保護の定番。塩基・求核剤に安定
1,3-ジチアンカルボニル
導入1,3-プロパンジチオール, BF₃·OEt₂
脱保護Hg(II)塩, MeI, 酸化剤
アンポール化(umpolung)にも利用可
Meエステルカルボン酸
導入MeOH/H₂SO₄ または TMSCHN₂
脱保護LiOH または NaOH aq
最小・安価。塩基加水分解で除去
tBuエステルカルボン酸
導入イソブチレン/H₂SO₄, Boc₂O/DMAP
脱保護TFA
酸で外れる。塩基加水分解に強い
Bnエステルカルボン酸
導入BnBr, K₂CO₃
脱保護H₂, Pd/C
中性条件(水素化)で除去できる
※ 代表的な条件のみ。基質依存性があるため一次文献(Greene's PG 等)で要確認。
Nudged Elastic Band (NEB) 法で反応経路・遷移状態を探索します。 ✏️「ここで描く」ボタンから直接描画するか、描画タブで保存したスケッチを読み込んでください。
構造設定
原料 (R)
未設定
生成物 (P)
未設定
計算パラメータ
中間イメージ数
8
ばね定数 k
1
最大ステップ数
300
収束判定 fTol
0.05
エネルギー計算: ※ 形状変化のみ。結合の組み換えを伴う反応には DFT を使用
画面右下の「計算」ボタンで以下の計算ツールが利用できます。
- 分子量: 化学式を入力して平均分子量・精密質量を計算（HRMS 向け）
- 収率: 理論収量・実収量・収率を相互計算
- 溶液調製: モル濃度・体積・質量の変換
- pKa: 代表的な官能基の pKa 値を参照
- NMR 溶媒: 重水素化溶媒のシフト基準と物性一覧