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化学記事

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上向きH
電荷
消去
整形
元に戻す
やり直し
全消去
黒(モノクロ)
カラー
画像コピー(PowerPoint貼付・再編集対応)
SVGファイル保存
PNG保存(300dpi)
スケッチ保存/読込
100%
C2H6
30.07
CC
※セルを選んでから押すと末尾文字を変換(脚注 a,b,c も可)

収率列の最高値は自動で強調されます(図出力では太字)。Entry列は自動採番。⧉で行を複製して条件を1つだけ変える、が最速の入力方法です。

NMRデータ整形(ACS形式)

δ (ppm)多重度J (Hz)H数

HRMS計算・整形

精密質量(最多同位体)から付加体のm/zを自動計算。ドロータブの分子式バーにもexact massを表示しています。

Bocアミン
導入Boc₂O, Et₃N(または NaHCO₃ aq)
脱保護TFA / 4M HCl–ジオキサン

酸で外れる。塩基・求核剤・接触水素化に安定

Fmocアミン
導入Fmoc-Cl または Fmoc-OSu, 塩基
脱保護20% ピペリジン/DMF

塩基で外れる。酸に安定。SPPSの定番

Cbz (Z)アミン
導入Cbz-Cl, 塩基
脱保護H₂, Pd/C

水素化分解。酸・塩基に比較的安定

Acアミン
導入Ac₂O または AcCl, 塩基
脱保護強酸/強塩基で加水分解

外しにくいので一時保護には不向きなことも

Tsアミン
導入TsCl, ピリジン
脱保護Na/ナフタレン, Mg/MeOH 等

非常に頑丈。脱保護条件が過酷

TMSアルコール
導入TMSCl, イミダゾール
脱保護K₂CO₃/MeOH, 希酸, F⁻

最も外れやすいシリル。仮保護向き

TBS (TBDMS)アルコール
導入TBSCl, イミダゾール/DMF
脱保護TBAF/THF, HF·py

汎用シリル。酸性条件にはやや弱い

TIPSアルコール
導入TIPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF

TBSより酸に強い。1級OH選択的

TBDPSアルコール
導入TBDPSCl, イミダゾール
脱保護TBAF(遅め)

酸に最も強いシリル級。かさ高い

Bnアルコール
導入BnBr, NaH/DMF
脱保護H₂, Pd/C

酸塩基に強い。水素化で除去

PMBアルコール
導入PMB-Cl, NaH(または PMB-トリクロロアセトイミダート)
脱保護DDQ / CAN

Bnと直交。酸化的に外せる

MOMアルコール
導入MOMCl, DIPEA
脱保護HCl/MeOH, TMSBr

酸で除去。塩基に安定

THPアルコール
導入DHP, PPTS(cat.)
脱保護PPTS/MeOH

安価。ジアステレオマー混合物になる点に注意

Acアルコール
導入Ac₂O, ピリジン/DMAP
脱保護K₂CO₃/MeOH

穏和に着脱可能。塩基性条件に弱い

Tr (トリチル)アルコール
導入TrCl, ピリジン
脱保護希酸(AcOH aq 等)

1級OH選択的。かさ高い

1,3-ジオキソランカルボニル
導入エチレングリコール, TsOH, Dean–Stark
脱保護希酸水溶液 / アセトン, PPTS

アセタール保護の定番。塩基・求核剤に安定

1,3-ジチアンカルボニル
導入1,3-プロパンジチオール, BF₃·OEt₂
脱保護Hg(II)塩, MeI, 酸化剤

アンポール化(umpolung)にも利用可

Meエステルカルボン酸
導入MeOH/H₂SO₄ または TMSCHN₂
脱保護LiOH または NaOH aq

最小・安価。塩基加水分解で除去

tBuエステルカルボン酸
導入イソブチレン/H₂SO₄, Boc₂O/DMAP
脱保護TFA

酸で外れる。塩基加水分解に強い

Bnエステルカルボン酸
導入BnBr, K₂CO₃
脱保護H₂, Pd/C

中性条件(水素化)で除去できる

※ 代表的な条件のみ。基質依存性があるため一次文献(Greene's PG 等)で要確認。

Nudged Elastic Band (NEB) 法で反応経路・遷移状態を探索します。 ✏️「ここで描く」ボタンから直接描画するか、描画タブで保存したスケッチを読み込んでください。

構造設定

原料 (R)
未設定
生成物 (P)
未設定

計算パラメータ

中間イメージ数
8
ばね定数 k
1
最大ステップ数
300
収束判定 fTol
0.05
エネルギー計算: ※ 形状変化のみ。結合の組み換えを伴う反応には DFT を使用

クロスカップリング反応は、遷移金属触媒(主にパラジウム)を用いて二つの有機分子を炭素–炭素結合で連結する反応です。 2010年にHeck、根岸英一、鈴木章の3名がノーベル化学賞を受賞し、医薬・農薬・材料科学における重要性が広く認知されました。

主要なクロスカップリング反応:

  • Suzuki–Miyaura カップリング: アリールボロン酸と有機ハライドのカップリング。 水系溶媒でも進行し、官能基許容性が高い。製薬企業で最も頻用される C–C 結合形成反応。
  • Negishi カップリング: 有機亜鉛試薬を用いる。高活性・高選択性で、 sp³–sp² カップリングにも適用可能。
  • Heck 反応: アリールハライドとアルケンの C–H/C–X 結合交換。 β-水素脱離を経由して新たなアルケンを与える。
  • Buchwald–Hartwig アミノ化: アリールハライドとアミンのカップリングで アリールアミン合成。医薬品合成の重要基盤反応。
  • C–H 活性化カップリング: 近年急速に発展。予め官能基化せず直接 C–H 結合を切断。 廃棄物削減・工程短縮に貢献。

反応機構(Pd 触媒の例):

酸化的付加(Pd⁰ → PdⅡ) → トランスメタル化 → 還元的脱離(PdⅡ → Pd⁰)の 3 段階サイクル。 配位子設計(BrettPhos、SPhos など嵩高い Buchwald 配位子)によって電子的・立体的チューニングが可能。

参考: Nicolaou, K. C. et al. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 4442–4489. / Johansson Seechurn, C. C. C. et al. Angew. Chem. Int. Ed. 2012, 51, 5062–5085.